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세플리트 ®모노젯 ™균일한 입자 연마 수지, 초순수 품질

전자 부품, 집적 회로, 칩 및 기타 전자 산업의 생산에서 거의 모든 공정은 세척 작업을 위해 순수한 물이 필요하고 작업물은 물과 직접 접촉합니다. 한편으로는 공정에서 얼룩을 세척할 수 있지만 다른 한편으로는 물의 불순물이 작업물에 2차 오염을 형성하는 것을 방지해야 합니다. "전자 등급 초순수"라는 개념은 전자 산업의 가장 중요한 부분 중 하나가 되었습니다.

전자급 초순수 제조를 위한 전통적인 기술 공정:
traditional-technological-process-for-preparation-of-electronic-grade-ultrapure-water

초순수 제조 및 연마 공정에서  고품질 연마 수지  더 높은 처리 정확도, 더 높은 순도 수준 및 균일한 입자 크기가 물 정화를 달성하는 데 필요합니다. Sunresin은 "제트 과립화" 기술을 개발했으며 세계 최고의 수지 생산 라인을 사용하여 고순도, 고변환을 생산합니다.  균일 입자 H형 양이온 교환 수지  그리고  OH형 음이온교환수지  균일계수

"제트 과립화" 공정과 전통적인 공정의 비교:
comparison-between-jet-granulation-process-and-traditional-process_1589330655

Sunresin의 세련된 광택 수지 유형 및 물 유입 및 유출 표시기:

제품 유입수 사양 출구 물 사양
세플라이트 ® 모노젯™ MB615U 전기 저항률
16M 길이 CM
전기 저항률
18.1M 길이 CM
TOC는 20ppb TOC는 2ppb
Si는 5ppb Si는 1ppb
세플라이트 ® 모노젯™ MB610U 전기 저항률
17M시간 CM
전기 저항률
18.2M 길이 CM
TOC는 15ppb TOC는 2ppb
Si锛�2ppb Si(0.5ppb)

 

Sunresin의 정제된 광택 수지의 장점:

1. 더 나은 유체 역학으로 시스템은 압력 강하가 적습니다. Sunresin의 연마 수지는 균일한 입자 크기의 겔 음이온 및 양이온 수지를 사용하며 균일성 계수는 ​​1.1 미만입니다. 충전 시 작은 수지 입자로 공극을 채우는 것을 피하고 효과적인 공간을 늘리고 유체 저항을 크게 줄입니다.

2. 더 높은 교환 속도와 작업 교환 용량을 갖습니다. 동일한 처리 조건에서 균일한 입자 수지는 더 큰 수지 표면적과 가장 작은 이온 확산 경로를 제공하여 수지 교환 속도와 작업 교환 용량을 크게 향상시킬 수 있습니다.

3. 작동 중 더 나은 기계적 강도와 수지 분쇄 손실 감소.

4. 더 높은 순도와 매우 낮은 불순물 이온 함량.

5. 매우 높은 H형/OH형 전환율, H형 전환율 > 99%, OH형 전환율 > 96%.

6. 공급주기가 짧아 고객 요구에 더 잘 부응합니다.

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