세플리트 ®모노젯 ™균일한 입자 연마 수지, 초순수 품질
전자 부품, 집적 회로, 칩 및 기타 전자 산업의 생산에서 거의 모든 공정에는 청소 작업을 위해 순수한 물이 필요하며 작업물은 물과 직접 접촉합니다. 한편으로는 공정 중 얼룩을 청소할 수 있지만, 다른 한편으로는 물 속의 불순물이 가공물에 2차 오염을 형성하는 것을 방지해야 합니다. "전자급 초순수"라는 개념은 전자 산업에서 가장 중요한 부분 중 하나가 되었습니다.
전자급 초순수 제조를 위한 전통적인 기술 프로세스:
초순수 준비 및 연마 공정에서는,
고품질 연마 수지
물을 정화하려면 더 높은 처리 정확도, 더 높은 순도 및 균일한 입자 크기가 필요합니다. Sunresin은 "제트 과립화" 기술을 개발했으며 세계 최고의 수지 생산 라인을 사용하여 고순도, 고변형,
균일한 입자의 H형 양이온 교환수지
그리고
OH형 음이온교환수지
균일도 계수
"제트 과립화" 공정과 기존 공정의 비교:
Sunresin의 세련된 광택 수지 유형 및 물 입구 및 출구 표시기:
| 제품 | 입구 물 사양 | 콘센트 물 사양 |
|---|---|---|
| 세플리테 ® 모노젯의 MB615U | 전기 저항률
16M 길이CM | 전기 저항률
18.1M 길이CM |
| TOC 20ppb | TOC锛≦2ppb | |
| Si锛≦5ppb | 시锛≦1ppb | |
| 세플리테 ® 모노젯의 MB610U | 전기 저항률
17M 길이CM | 전기 저항률
18.2M 길이CM |
| TOC 15ppb | TOC锛≦2ppb | |
| Si锛≦2ppb | Si锛≦0.5ppb |
Sunresin의 세련된 연마 수지의 장점:
1. 더 나은 유체 역학으로 시스템은 더 적은 압력 강하로 작동합니다. SunResin의 연마수지는 입자크기가 균일한 겔 음이온 및 양이온 수지를 사용하며 균일계수는 1.1 이하입니다. 충전 시 수지의 작은 입자로 공극을 채우는 것을 방지하고 유효 공간을 늘리며 유체 저항을 크게 줄입니다.
2. 더 높은 교환 속도와 작업 교환 용량을 갖습니다. 동일한 처리 조건에서 균일한 입자 수지는 더 큰 수지 표면적과 가장 작은 이온 확산 경로를 제공하여 수지 교환 속도와 작업 교환 용량을 크게 향상시킬 수 있습니다.
3. 기계적 강도가 향상되고 작동 중 수지 분쇄 손실이 적습니다.
4. 순도는 높고 불순물 이온 함량은 매우 낮습니다.
5. H형/OH형 전환율이 매우 높습니다. H형 전환율>99%, OH형 전환율>96%.
6. 공급주기가 짧아 고객 요구를 더 잘 충족시킵니다.
